简介： 本发明涉及一种用于基片的湿法处理设备，具有主体外壳，其包括用药液对基片、尤其是硅片进行湿法化学处理的多个处理槽，沿处理槽延伸和传送基片的水平传动系统，为了便于对设备的处理区进行监测和维护保养，以及对于配套设施在设备里的集成实行优化，并因而有助于简化设备结构，减少设备的占地面积，本发明建议，所述设备具有两个处理区，但配套设施以及在设备上方顶部和下方槽部之间的连接位于这两个处理区之间，由此使得可从两侧接近处理区。