简介： 本发明公开了一种金刚石修整碟及其制造方法，属于化学机械研磨技术领域。所述金刚石修整碟，包括氮化硅陶瓷基底和微米金刚石薄膜，微米金刚石薄膜涂覆在氮化硅陶瓷基底表面；通过拉曼光谱仪进行测定，微米金刚石薄膜仅在1330‑1339cm^‑1区间有一个尖锐峰；所述微米金刚石薄膜为SP³结构的金刚石多晶体。本发明的金刚石修整碟通过采用微米金刚石膜薄膜涂层，有效提高了修整碟的耐磨性，从能保证了尖点尖度的保持能力，对维持研磨垫的表面粗糙度有明显的优势，可以确保CMP制程中稳定的晶圆表面材料去除率和品质一致性。