简介： 本申请提供衬底减薄腐蚀去除装置，包括喷淋组件、蚀刻液容器和样品台组件，其中，喷淋组件包括固定支架，固定支架上分别固设有进液管、进气管和排气管，进液管的出口处设有喷嘴，进气管的出口位于喷嘴的上方，固定支架两侧分别与蚀刻液容器的内侧连接，进液管的入口端位于蚀刻液容器内，样品台组件位于蚀刻液容器的中心位置且能够绕蚀刻液容器的中心线旋转，样品台组件顶部设有用于布置焦平面探测器芯片组的固定部件，固定部件位于喷嘴下方且与喷嘴相对设置。本申请能够解决湿化学腐蚀方法在衬底减薄腐蚀去除过程中因为腐蚀速率差异造成的边缘过腐蚀问题，提高腐蚀过程的均匀性、一致性，进而减少腐蚀工艺对探测器光电性能的影响。