简介： 本发明的对晶片表面温度进行实时测量并监控的方法，对研磨垫的表面温度进行实时测量并实时监控，因此可以在清洗工艺中借助于化学反应和摩擦能动地应对晶片表面的不规则的温度变化。本发明的晶片表面温度测量传感器也可以在有从清洗液中产生的烟尘的环境下使用，按照红外线摄像机的各个点分别负责温度，从而能够按照区间校正温度。