简介： 本发明属于光学仪器及配件技术领域，尤其是涉及一种光学平面基片的制作方法；其特征在于它包含有依次进行的以下步骤：选取原材料、预成型、仿形、研磨、抛光、清洗、检验。本发明采用物理与化学结合的方式制作光学平面基片，工序大部分采用机器进行，人工参与的很少；因此，本发明具有以下有益效果：光学平面基片制作时间短、产品间的差异小、适合于工业大规模应用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度参数好。