简介： 本发明公开在镁合金表面通过微弧氧化工艺制备低吸收高发射热控涂层的方法，该方法的工艺流程包括：氧化前检查→有机溶剂除油→化学除油→热水洗→纯水洗→微弧氧化→冷水洗→纯水洗→干燥→包装，其中，在热控微弧氧化步骤中：电解液由以下成分组成：硅酸钠10-15g/L，氢氧化钾2-5g/L，氟化钠0.5-2g/L，氟锆酸钾1-5g/L，酒石酸钾1-10g/L；工艺参数如下：电流密度4-6A/dm2，频率400-600Hz，占空比30-50%，时间60-90min，温度10-30℃。由此，可以得到的热控涂层的发射率不低于0.86，太阳吸收率不大于0.35，均匀致密，与基体结合力好，同时具有良好的耐蚀性。