简介： 本实用新型提供了一种校正装置，应用于干法刻蚀机台以及化学气相沉积机台真空腔体中的静电吸附盘上，静电吸附盘包括一吸附盘本体，以及设置于吸附盘本体上的一承托台，承托台的横基面呈圆形，承托台的顶部用以放置一晶圆，其中，校正装置包括：一中空的圆形柱体，用以套设于所承托台上；环形出部，水平的环设于圆形柱体的靠近承托台的一端的顶部，环形突出部的顶面形成一测量面；测量面与承托台的顶面位置齐平；多个刻度尺，径向均布于测量面上。其技术方案的有益效果在于，可根据测量面上的多个刻度尺测量出放置于承托台顶面的晶圆样品是否出现位置偏移以及具体的偏移量，方便使用者对机台真空腔体中进行针对性的校正，提高了校正精度。