简介： 本实用新型涉及一种镀膜设备的观察结构，镀膜设备包括真空室，包括：遮挡部件，设于所述真空室的室壁的观测孔内，所述遮挡部件包括遮挡部和镂空部；透明罩体，对应设于所述观测孔所在的真空室的外壁上。本实用新型还提供了一种具有镀膜设备的观察结构的镀膜设备，有效的减小的观测孔的观测面积，防止了观测孔处发生异常起辉反应或打火现象，从而避免了异常起辉反应或打火现象对真空室内的化学气相沉积工艺的干扰问题；同时，还避免通过观测孔观察时，因异常起辉现象的辉光过于强烈，而刺激双眼的情况，避免了出现射频泄漏情况的概率，也减小了对周围环境造成的伤害，保证镀膜设备在有效反应工艺区进行正常的工艺镀膜。