简介： 本发明属于光学薄膜低折射技术领域，具体涉及一种SiO2薄膜红外特征吸收峰数量确定方法。本发明涉及光学薄膜在红外特征吸收峰叠加情况，对叠加吸收峰数量的精确分解方法，具体提出一种对薄膜材料红外特征吸收光谱吸收峰数量的确定方法，其将不同的吸收峰等效为化学物质的成分，利用红外光谱测量技术确定化学物质成分组成的原理，对薄膜样品进行处理后进行吸收峰数量的确定。本发明优点是在于可以准确确定薄膜的吸收峰数量，特别是对于相近吸收峰叠加的情况效果最为明显。由此，本发明提出通对吸收峰的分解方法，实现能够精确确定吸收峰的叠加数量，为材料介电常数的反演计算奠定技术基础。