简介： 本发明提供了浸渍化学处理系统以及对基片进行浸渍处理的方法,所述系统能够对浸渍槽提供所需的至少两种化学药剂的混合物。该系统能够极为精确地生成具有一个或多个所需特性的混合物,这至少部分地由于该系统能够监测混合物的至少一个特性或浸渍处理的至少一个参数,并利用所收集的信息对一个或多个已知与其有关的处理参数提供动态闭环反馈控制。