简介： 提供一种装置和方法,该装置和方法用于在化学气相沉积反应室内提供充分均匀的衬底温度。该方法和装置利用一个基架(110)固定反应室内的衬底(160),以及将多个加温元件(120,130,140)安置成能加热该基架和衬底。衬底高温计(138,139)测量衬底的温度以提供一个表示加工温度的信号。该信号用在反馈回路(151,134,132)中,控制一个或多个加温元件。提供至少两个对准在基架不同区域的基架高温计(126,136,146)。比较来自基架高温计的信号以提供一个不均匀温度的指示。该指示用于一个单独的反馈回路(149,124,122)内,调整其他的加温元件,以保持基架上温度的均匀性。