。本发明可适用于基底和薄膜不同弹性模量比及厚度比情况下的应力计算,在电沉积过程中可以准确显示初始阶段的应力变化,可精确得到整个厚度上每一个采样点的瞬时应力,结果更准确,适用于电化学沉积、CVD气相沉积、表面喷涂等领域的薄膜应力计算。">
薄膜瞬时应力的计算方法
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薄膜瞬时应力的计算方法
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简介: 一种薄膜瞬时应力的计算方法,包括下述的步骤:在基底上进行薄膜沉积试验,并实时测量基底曲率半径R与沉积层厚度hf;根据下式计算第i时刻的薄膜瞬时应力σfi。本发明可适用于基底和薄膜不同弹性模量比及厚度比情况下的应力计算,在电沉积过程中可以准确显示初始阶段的应力变化,可精确得到整个厚度上每一个采样点的瞬时应力,结果更准确,适用于电化学沉积、CVD气相沉积、表面喷涂等领域的薄膜应力计算。
一种薄膜瞬时应力的计算方法,包括下述的步骤:在基底上进行薄膜沉积试验,并实时测量基底曲率半径R与沉积层厚度hf;根据下式计算第i时刻的薄膜瞬时应力σfi。本发明可适用于基底和薄膜不同弹性模量比及厚度比情况下的应力计算,在电沉积过程中可以准确显示初始阶段的应力变化,可精确得到整个厚度上每一个采样点的瞬时应力,结果更准确,适用于电化学沉积、CVD气相沉积、表面喷涂等领域的薄膜应力计算。
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标签:化学分析
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