胶体表面呈凸起状的硅溶胶及其制备方法和应用
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胶体表面呈凸起状的硅溶胶及其制备方法和应用
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简介: 本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域,具体公开一种胶体表面呈凸起状的硅溶胶及其制备方法和应用。所述胶体表面呈凸起状的硅溶胶,包括液体介质和胶体粒子,所述胶体粒子为狼牙棒状、且表面带凸起的二氧化硅胶体粒子,所述凸起的高度H为1~8nm;所述二氧化硅胶体粒子的氮气吸附BET比表面积拟合粒径为D1,经透射电镜表征所得的短轴粒径为D2,经动态光散射测得的粒径为D3,1.2≤D2/D1≤1.8,且2.0≤D3/D1≤6.3。本发明提供的硅溶胶,具有较高的粗糙度和异形度,能够有效减少与被研磨物的接触时间,减少缺陷和划痕的产生,用于抛光液中有助于提高抛光效率。
本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域,具体公开一种胶体表面呈凸起状的硅溶胶及其制备方法和应用。所述胶体表面呈凸起状的硅溶胶,包括液体介质和胶体粒子,所述胶体粒子为狼牙棒状、且表面带凸起的二氧化硅胶体粒子,所述凸起的高度H为1~8nm;所述二氧化硅胶体粒子的氮气吸附BET比表面积拟合粒径为D1,经透射电镜表征所得的短轴粒径为D2,经动态光散射测得的粒径为D3,1.2≤D2/D1≤1.8,且2.0≤D3/D1≤6.3。本发明提供的硅溶胶,具有较高的粗糙度和异形度,能够有效减少与被研磨物的接触时间,减少缺陷和划痕的产生,用于抛光液中有助于提高抛光效率。
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标签:化学分析
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