简介： 本发明公开了一种自支撑悬浮石墨化碳膜制备方法。主要利用化学气相沉积方法，在硅晶圆衬底上，通过含碳有机物气体在高温氢气环境中裂解，自组装包裹沉积一层碳膜，再对衬底进行刻蚀，凭借强化学稳定的碳‑硅化学健的形成，得到具有较高机械强度的悬浮自支撑碳膜。技术方案的要点有：利用优化的化学气相沉积条件，通过多种图形化开窗口技术，选择合适的湿法刻蚀参数进行刻蚀，从而得到不同厚度、不同窗口尺寸的硅基自支撑碳膜。本方法制备的自支撑碳膜具有其制作方法简单，成本低廉，机械强度高，厚度大小易于控制等显著特点。使用此制备方案得到的自支撑悬浮碳膜可以替代传统铍(Be)箔窗口，用于X射线窗口薄膜，更好地探测更低能量的X射线特征谱线；可以用于透射电子显微镜载物样品支撑；还可用于真空计、微机电与纳机电系统等领域。