简介： 本发明公开了一种图形结构的制造方法，包括步骤：步骤一、涂布光刻胶；步骤二、进行灰度曝光和显影形成光刻胶条形的具有高度逐渐变化的分布结构的光刻胶图形结构；步骤三、进行刻蚀将各光刻胶条形的高度逐渐变化的分布结构转移到各第一工艺层条形上；步骤四、形成第二工艺层；步骤五、进行化学机械研磨工艺形成由填充于沟槽中的第二工艺层和沟槽之间的第一工艺层条形组成第二图形结构；各第一工艺层条形的高度逐渐变化的分布结构在化学机械研磨工艺中抵消化学机械研磨工艺所产生的侵蚀。本发明能减少化学机械研磨工艺对图形结构产生磨损，使图形结构对比清晰结构完整，图形结构能为光刻标识，从而能提高对准精度和量测准确度，提高工艺可靠性。