简介： 本发明公开了一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备，涉及化学气相沉积装置清洗技术领域。本发明的一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备，包括一次剥离→二次剥离→研磨→喷砂→化学抛光→OVEN烘干→出库检查→包装；未剥离干净的气体扩散器进行二次剥离，所述二次剥离包括湿式喷砂→高压水洗，通过采用湿式喷砂去除局部残留，减少药液浸泡，避免孔径扩张，以保证气体扩散器孔径扩张量<0.03mm；另外，采用湿式喷砂局部作业时表面粗糙度不会明显变大，可满足气体扩散器表面具有一定粗糙度的要求，并保证研磨的均匀性。