简介： 本发明公开了一种熔石英光学基底表面氟化物薄膜的快速脱膜方法，属于光学元件制备方法技术领域，该方法利用复分解反应或络合反应，在室温或加热条件下反应，使熔石英光学基底表面氟化物发生化学反应而被彻底清除，热水浴中反应除膜，最快仅需20-30分钟，温水浴中除膜需1.5-2.5小时，室温除膜需3-7小时。脱膜后与未镀膜光学基底相比表面粗糙度无明显变化，亦无可探测物理或化学损伤。