简介： 本发明公开了属于化学热处理技术领域的一种高纯钨表面生成WC方法。具体方法为：准备高纯钨零件和渗碳剂，高纯钨零件表面处理后与渗碳剂装炉进行渗碳处理，采用高真空渗碳，真空度要求< 10?2Pa，渗碳温度为1600～1800℃，保温3?4h，然后再通入约1000Pa高纯氩气炉冷到室温取出，最后进行检验。本发明的方法能够在高纯钨表面生成7?15μm的WC化合物，有效提高了金属钨的耐蚀性。