简介： 公开了一种晶片清洗方法,其包括将清洁水供给用化学溶液清洗的晶片(2),测量包括化学溶液和清洁水的溶液(6)的电阻率,并将该测量值对时间微分,以及用清洁水持续清洗晶片(2),直到电阻率的时间微分值等于或小于预定值,并在该预定值保持预定时间。