简介： 一种衬底处理设备,其在部分地形成于腔室中的化学溶液处理室中进行化学溶液处理。在该化学溶液处理的过程中,该衬底处理设备密封该化学溶液处理室,测量该化学溶液处理室中的压力,并且根据测量值控制化学溶液处理室中的压力。无论该衬底处理设备所处的大气压如何,该化学溶液处理室能够受控至预定的压力。该衬底处理设备还允许对最小需求量的区域进行有效的压力控制。