简介： 本实用新型提出一种带光路的匀胶机，包括匀胶机本体，匀胶机本体包括第一机座、第二机和涂膜工作基座，第二机座内部设有光路气路多用途旋转机构，第一机座的内腔顶部设有光源组件，涂膜工作基座内部的工作腔底部设有排气管。本实用新型可在旋涂过程中吸收光谱、荧光光谱和反射光谱的动态变化，用于跟踪溶剂挥发、溶剂退火、热退火过程中的材料相变，并在化学反应动力学、生化过程的跟踪检测方面具有优势，排气泵机通过多条对称设置的导气管使得排气管进行抽气工作，而由于排气管座顶部开设有呈圆环形的排气槽口，且排气管与涂膜工作基座的工作腔呈同轴度设置，排气过程中，排气均匀，不产生气流紊乱，保证基片上涂膜的精度。