简介： 本实用新型是一种基于近场电纺直写技术的光栅尺制造装置。光栅尺制造装置包括有XY平面运动平台（1）、Z轴运动导轨（2）、纺丝喷针（3）、注射器（4）、注射泵（5）、高压电源（6）、高压电源控制器（7）、注射泵控制器（8）、Z轴运动控制器（9）、XY运动平台控制器（10）、电纺控制器（11）、微电流检测器（12），光栅尺制造装置能够根据想要刻画光栅栅距，自动调节电纺参数。本实用新型光栅尺制造方法包括以下步骤：16）清洗玻璃片并在玻璃片上镀上一层均匀铬膜；17）通过电纺的方法按照想要刻的光栅排列在镀铬玻璃片上有序电纺直写聚合物覆盖线；18）将玻璃片放入化学溶剂中定形和腐蚀；19）清除电纺覆盖物。本实用新型用电纺直写的方法取代了传统光栅尺制造中光刻的过程，可以加工制造出精度非常高的光栅尺。