简介： 本发明提供一种抛光垫。该抛光垫包含有一第一层,一第二层,一孔洞及一插塞。该孔洞形成于该抛光垫中,并包含有一位于该抛光垫的该第一层中的第一部分及一位于该抛光垫的该第二层中的第二部分。该插塞置于该孔洞中,且具有一上部及一下部。该上部置于该孔洞的该第一部分中,而该下部置于该孔洞的该第二部分中。由于该插塞与抛光垫等高,因此可以避免水滴残留等问题,而准确地检测出化学机械抛光工艺的终点。