简介： 本发明提供一种修整图形的方法、介质、服务器及光学掩模的制造方法，所述修整图形的方法包括：利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌，获得形貌图，所述形貌图体现了晶圆表面的高低；对晶圆表面不符合预设高度的区域进行标记，获得阶高标记层信息；根据所述阶高标记层信息建立对应的景深模型；利用所述景深模型对待修整的图形进行光学邻近校正处理。本发明所述的修正图形的方法能够检测出晶圆表面的不平坦区域上的热点问题，并且通过图形校正优化修正该问题造成的不良影响，提高器件的良品率。