简介： 本发明涉及金属有机物化学气相沉积设备技术领域，具体涉及一种用于MOCVD设备GaAs基外延掺杂源供给系统，旨在解决实际生产过程中掺杂源过期使用或未使用完即需更换，从而导致生产的产品质量不能保证，以及生产成本增加的问题，其技术要点在于供若干种类的载气及掺杂源输入并输出调整所得气体的流通管路、至少两台与所述流通管路相连的MOCVD设备，以及一控制子系统，所述载气与所述掺杂源混合稀释以输出指标实时数据符合指标目标数据的所述调整所得气体；所述控制子系统包括数字化传感器；执行件；与所述数字化传感器通信连接，将数字化传感器检测所得的指标实时数据与对应的指标目标数据比对，并控制所述执行件动作的控制端。