简介： 本发明公开了一种发射药表面残留硫脱除方法，涉及发射药技术领域，其技术方案要点：具体包括以下步骤：步骤1)：采用超声清洗机对某表面含硫发射药进行超声清洗，脱除发射药表面残留的水溶性硫化物；步骤2)：脱除发射药表面残留的单质硫，将步骤1)中脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内进行搅拌反应，并控制搅拌反应的温度和时间；步骤3)：对经过步骤1)和步骤2)处理的发射药进行硫元素含量检测。本技术方案利用简单的物理化学方法，能够实现发射药表面残留硫的脱除，从而大幅度降低发射药中硫元素的含量，有效地抑制发射药在射击过程中产生的刺激性气味。