简介： 本发明公开了一种表面内嵌微纳结构增透层的可见光LED芯片及制备方法，通过在衬底上逐层形成缓冲层、N型层、量子阱层、P型层和微结构增透层，然后在P型层和微结构增透层上形成透明导电层，微结构增透层为TiO₂，或TiO₂/SiO₂复合膜，或TiO₂/SiO₂多层膜；通过利用TiO₂对可见光高透且良好的化学稳定性，利用低折射率的SiO₂与高折射率的TiO₂材料进行膜层结构光学设计与分析，在达到折射率要求的同时，兼顾透射率的要求，结合微纳模板及刻蚀技术在表面形成内嵌式微纳结构增透层，再覆盖兼具电流扩展及增透作用的透明导电层，制备得到的LED，其表面光提取效率大大提升，发光效率明显改善。