简介： 本发明属于分析化学技术领域，尤其涉及一种用于脱除展青霉素的纳米材料的合成与应用，本发明采用2‑Oxin为替代模板，AM为功能单体，以合成的Fe₃O₄@SiO₂@CS‑GO磁性纳米粒子为载体，通过表面印迹法制备了特异性针对于Pat吸附的磁性MIP。Fe₃O₄的加入使得最终制备的分子印迹吸附材料具有磁性，有利于材料与基质间的分离，免去了过滤、离心等繁杂的操作步骤，方便材料的回收。