简介： 本发明公开了一种高硅硅钢片的制作方法，涉及硅钢片生产技术领域，包括如下步骤：S1、取普通硅钢片；S2、在普通硅钢片表面涂硅层；S3、对涂层后的硅钢片进行高温扩散；S4、检测硅含量；S5、测试处理后的硅钢片的磁性能；本发明所公开的高硅硅钢片的制作方法，采用等离子化学气相沉积法在普通硅钢片表面涂硅层,温度低，时间短，工艺重现性好，表面光洁，化合物层可达10μm以上，并有非晶态形成，能满足0.1mm厚钢片达6.5％Si的要求，与相同底Si的无取向硅钢片相比，铁损P10/50降低50％以上，其它磁性能也大有改善。