简介： 本实用新型公开了一种改善纳米镀膜设备等离子体均匀性装置，属于真空镀膜技术领域。该装置中，高频电源与反应腔室连接，电极与高频电源连接并安装于反应腔室内部，化学单体管路和工艺气体管路与反应腔室连通；化学单体蒸汽和工艺气体可通过管路通入反应腔室，通过高频电源电极放电产生等离子体进行化学气相沉积，形成聚合物涂层。本实用新型通过电极边缘采用边缘卷圆或者在电极的边缘拼接、焊接、铆接、螺纹装配圆管、元棒或者定制型材的方法，可消除电极边缘电场较强造成的等离子体密度较大的现象；同时采用本实用新型设计的电极经等离子体探针检测，放电电场均匀度大幅改善，同批次工件镀膜厚度更加均匀，镀膜质量显著提高。