简介： 本发明公开了一种刚玉－莫来石复相陶瓷涂层 制备方法。采用一定的先驱体气相系统在450℃～650℃的温度 下通过减压化学气相沉积法制备出γ－Al2O3结合无定型SiO2复核氧化物涂层，然后在1250℃左右热处理即可获得。所用先驱体均为高纯气体，沉积炉内压力为76乇以下，设备为通用的化学气相沉积炉。可以通过调整进入沉积炉内的氧化铝与氧化硅的先驱体流量比例获得不同组份的(0～100％)刚玉－(0～100％)莫来石复相陶瓷涂层。