简介： 本发明公开了一种基于光刻蚀技术制备微电极阵列并修饰以导电基元及无机传感涂层制备电化学无酶传感器的制备方法，涉及高分子材料科学、光刻蚀技术、电化学传感器等领域。本发明中采用的光刻胶能够实现超高长径比微电极阵列的制备，在二维平面结构的基础上开发三维结构，大大增加涂层的比表面积，为制备高灵敏度电化学传感器奠定了基础，同时三维立体的微阵列结构提高了涂层表面的粗糙度，有利于传感涂层的有效负载。本发明中采用的原位电化学还原无机过渡金属纳米粒子的方法实现了具有电化学响应的无机传感涂层的制备，与导电微电极阵列具有协同作用。本发明所采用的技术操作简便，所构建的传感器对于待分析物具有灵敏度高、稳定性好等优点。