简介： 本发明涉及一种固定环，用于化学机械抛光装置中，化学机械抛光装置包括抛光盘和抛光头，抛光头包括晶片载体和固定环，晶片载体用于夹持半导体晶片，抛光盘与晶片接触并与抛光头分别以相反的方向进行旋转以抛光晶片，固定环包括：环形基体，设于晶片载体下方，环绕晶片侧表面，用于固定晶片；至少一易断导线，固定于环形基体表面，沿环形基体的周长方向延伸并环绕一周；通断状态检测装置，其分别与各易断导线连接，并在任一易断导线断裂时发出报警信号；信号处理装置，与通断状态检测装置输出端连接，将报警信号转化为抛光停止信号，用于指示抛光头和抛光盘停止旋转。其可有效降低因固定环破裂给工艺带来的损失，有利于提升晶圆制备工艺效率。