简介： 本发明涉及一种具有转动型加热器的化学气相沉积(CVD)装置。具体地,本发明的CVD装置的有益效果在于,其包括用于转动加热器的马达和用于检测加热器的指向位置的位置传感器组件,使得在沉积时沉积在晶片上的薄膜能够通过加热器的转动而形成一致的厚度,而不管反应气体不均匀地流入到反应室中,并且能够确保晶片在沉积过程开始和结束时的指向位置彼此相同,从而使晶片在加热器上沿预定方向定向。