简介:
本发明公开了一种可以在没有化学辅助的环境下取得高值高宽比的超高真空聚焦离子束微研磨设备及其工艺。一个超高真空腔(10)包括多个通口,用于观察目标衬底,对目标衬底进行镀膜,插入或者操作目标衬底,以及对目标衬底进行各种分析。通口(12)可以是一个具有用于摄影通口的通口(14)。此外,本发明公开了一种采用微研磨工艺制作的耐久的数据存储介质,该耐久的数据存储介质可以存储诸如数字字符或字母字符以及图形形体或图形字符。
本发明公开了一种可以在没有化学辅助的环境下取得高值高宽比的超高真空聚焦离子束微研磨设备及其工艺。一个超高真空腔(10)包括多个通口,用于观察目标衬底,对目标衬底进行镀膜,插入或者操作目标衬底,以及对目标衬底进行各种分析。通口(12)可以是一个具有用于摄影通口的通口(14)。此外,本发明公开了一种采用微研磨工艺制作的耐久的数据存储介质,该耐久的数据存储介质可以存储诸如数字字符或字母字符以及图形形体或图形字符。