简介： 本发明公开了一种基于HIPIMS技术的CrAlN涂层的制备方法，本发明采用高功率脉冲磁控溅射技术(High Power Impulse Magnetron Sputtering，HIPIMS)，使用高能脉冲靶(High pulse power cathode)和双极脉冲靶(Bipolar pulsed sputtering cathodes)共溅射的方式，沉积(H+B)CrAlN涂层；同时采用第四代电弧离子镀技术(ARC evaporators)沉积ARC CrAlN涂层。通过划痕试验、X射线衍射、微观形貌观察、电化学腐蚀测试等分析涂层各方面的性能后发现，共溅射制备的(H+B)CrAlN涂层膜基结合力更强，临界载荷最高可达到62.4N；其表面晶粒更细小，缺陷少，断面组织致密；同时(H+B)方法制备的CrAlN涂层高温抗氧化性最佳；在涂层耐腐蚀性能方面共溅射制备的涂层比电弧离子镀制备的涂层更耐蚀。