简介： 本发明公开了一种对玻璃盖片表面进行超疏改性的方法，所述方法是首先对经表面清洁处理后的玻璃盖片表面直接进行激光刻蚀后再进行羟基化处理，然后在玻璃盖片表面形成纳米涂层，最后采用浸泡法或者化学气相沉积法在处理后的玻璃盖片表面进行低表面能材料修饰。本发明具有工艺简单、无需特殊设备、易于推广实施、重复性好等优点；尤其是，经本发明方法改性后的玻璃盖片表面在经受多次擦拭、高温或长时间紫外辐照后仍然可以保持超疏自清洁的特性，可适用于尘埃环境恶劣的深空探测航天器中。