简介： 本发明公开了一种锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器，该制备方法包括采用化学气相沉积法制备氧化钼纳米薄膜；将亚锡盐和还原剂加入盐酸溶液中混合制备插层溶液；再将插层溶液滴至氧化钼纳米薄膜上，在50～70℃环境下进行插层处理。以上制备方法操作简单，其中利用锡插层氧化钼，可减少氧化钼的禁带宽度，实现对近红外光子的高效吸收，所制得的锡掺杂氧化钼纳米薄膜体积大且厚度均匀，热稳定性好，可用于制备近红外光电探测器。