简介： 本发明的名称是制造用于热辅助磁记录光输送的干涉测量锥形波导管的方法。以高临界尺寸均匀性和小线边缘粗糙度制造用于热辅助磁记录(HAMR)头的干涉测量锥形波导管(I-TWG)的方法，其中该方法包括形成I-TWG薄膜堆栈，其中在I-TWG芯层上的两个硬掩模层被夹在两个包层之间，使用深紫外光刻在I-TWG薄膜堆栈上限定光敏抗蚀剂图案，使用反应离子蚀刻(RIE)转移所述图案至第一硬掩模层，使用RIE在第二硬掩模层上形成临时的I-TWG图案，使用RIE转移临时的图案至I-TWG芯，再填充包层和使用化学机械平面化(CMP)进行平面化。