二维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列
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二维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列
来源:北方有色网
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简介: 本发明公开了一种二维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列,包括上沟槽电极和下沟槽电极,上沟槽电极和下沟槽电极分别刻蚀在中间半导体基体表面;上沟槽电极内嵌有上中央电极,上中央电极和上沟槽电极间填充有上半导体基体;下沟槽电极内嵌有下中央电极,下沟槽电极和下中央电极间填充有下半导体基体;上沟槽电极和下沟槽电极的外宽均为2RX,下沟槽电极位于上沟槽电极下方,两者垂直相距d3,且两者水平方向四分之一部位重叠,上中央电极和下中央电极规格相同。通过吸杂氧化在芯片表面生成二氧化硅层,然后经标记与光刻将探测器图形转移到二氧化硅层上,再进行阴极电极和阳极电极的刻蚀和化学沉积扩散,最后进行损伤修复及封装。
本发明公开了一种二维排列双面错嵌式三维探测器及其制备方法、阵列,包括上沟槽电极和下沟槽电极,上沟槽电极和下沟槽电极分别刻蚀在中间半导体基体表面;上沟槽电极内嵌有上中央电极,上中央电极和上沟槽电极间填充有上半导体基体;下沟槽电极内嵌有下中央电极,下沟槽电极和下中央电极间填充有下半导体基体;上沟槽电极和下沟槽电极的外宽均为2RX,下沟槽电极位于上沟槽电极下方,两者垂直相距d3,且两者水平方向四分之一部位重叠,上中央电极和下中央电极规格相同。通过吸杂氧化在芯片表面生成二氧化硅层,然后经标记与光刻将探测器图形转移到二氧化硅层上,再进行阴极电极和阳极电极的刻蚀和化学沉积扩散,最后进行损伤修复及封装。
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标签:化学分析
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