AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器及其制备方法
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AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器及其制备方法
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简介: 本发明涉及半导体紫外光电探测器的技术领域,更具体地,涉及一种AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器及其制备方法。一种AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器,其中,包括衬底,利用金属有机化学气相沉积外延外生长法(或分子束外延生长法),依次在衬底上生长的非故意掺杂低温AlN缓冲层,非故意掺杂高温AlN缓冲层,非故意掺杂AlmGa1‑mN窗口层,n型AlmGa1‑mN层,n型AlnGa1‑nN组分缓变层,非故意掺杂AlaGa1‑aN吸收倍增层,非故意掺杂AlbGa1‑bN吸收倍增层,非故意掺杂AlcGa1‑cN吸收倍增层,Mg掺杂p型AlxGa1‑xN层,非故意掺杂AlxGa1‑xN层,n型AlyGa1‑yN组分缓变层和n型AlzGa1‑zN层,以及最后利用器件工艺沉积得到的n型欧姆接触电极。
本发明涉及半导体紫外光电探测器的技术领域,更具体地,涉及一种AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器及其制备方法。一种AlGaN基日盲紫外雪崩异质结光电晶体管探测器,其中,包括衬底,利用金属有机化学气相沉积外延外生长法(或分子束外延生长法),依次在衬底上生长的非故意掺杂低温AlN缓冲层,非故意掺杂高温AlN缓冲层,非故意掺杂AlmGa1‑mN窗口层,n型AlmGa1‑mN层,n型AlnGa1‑nN组分缓变层,非故意掺杂AlaGa1‑aN吸收倍增层,非故意掺杂AlbGa1‑bN吸收倍增层,非故意掺杂AlcGa1‑cN吸收倍增层,Mg掺杂p型AlxGa1‑xN层,非故意掺杂AlxGa1‑xN层,n型AlyGa1‑yN组分缓变层和n型AlzGa1‑zN层,以及最后利用器件工艺沉积得到的n型欧姆接触电极。
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标签:化学分析
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