简介： 本实用新型提供一种流量探测装置,用以探测化学机械研磨设备的液体流量是否符合要求,所述流量探测装置包括流量计以及设置于所述流量计上的光学传感器,当所述流量探测装置探测到化学机械研磨设备的液体流量不符合要求时,报警装置报警通知操作人员,可确保晶片的清洗效果。