金属层冗余金属填充测试光掩模设计和应用
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金属层冗余金属填充测试光掩模设计和应用
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简介: 本发明公开一种金属层冗余金属填充测试光掩模的设计和应用,提出一种具有多种应用功能的金属层冗余金属填充测试光掩模的设计及其应用。使用本发明的光掩模可以有效地提高金属层冗余金属填充设计和金属层化学机械研磨工艺开发的效率,有效地提高预测经过金属层化学机械研磨后的平坦度和需要的图形密度调整的效率,同时,可以减少光刻工艺模块中所使用测试光掩模的成本。
本发明公开一种金属层冗余金属填充测试光掩模的设计和应用,提出一种具有多种应用功能的金属层冗余金属填充测试光掩模的设计及其应用。使用本发明的光掩模可以有效地提高金属层冗余金属填充设计和金属层化学机械研磨工艺开发的效率,有效地提高预测经过金属层化学机械研磨后的平坦度和需要的图形密度调整的效率,同时,可以减少光刻工艺模块中所使用测试光掩模的成本。
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标签:化学分析
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