简介： 本发明涉及一种测试光掩模板及其应用,所述测试光掩模板用于测试当前金属层,所述测试光掩模板的版图由nxm个区域构成,所述每个区域具有不同的图形密度,每个区域包括密集线条阵列和冗余图形阵列,其中n为大于等于1的整数,m为大于等于1的整数。本发明通过使用具有金属层冗余金属填充应用功能和监测光刻工艺中产生缺陷功能的测试光掩模板,有效地提高金属层冗余金属填充设计和金属层化学机械研磨工艺开发的效率,有效地提高预测经过化学机械研磨后的金属层平坦度和需要的图形密度调整的效率,同时可以减少光刻工艺模块中所使用测试光掩模的成本。