简介： 本发明主要涉及用于光刻模型校准的图案选择的方法和设备。根据一些方面,本发明的图案选择算法可以被应用于任何已有的候选测试图案池。根据一些方面,本发明自动地选择这些测试图案,其能够更有效地由已有的候选测试图案池来确定优化的模型参数值,如与设计优化图案相反。根据另外的方面,根据本发明的已选择的测试图案组能够激发模型公式中的所有已知的物理和化学特性,确保测试图案的晶片数据可以将模型校准推动成优化的参数值,其实现了由模型公式施加的预测精度的上边界。