简介： 一种抛光垫及其监测方法和监测系统，其中抛光垫包括：底层以及位于底层表面的抛光层；位于底层表面与抛光层同层的多个标示件，用于标示抛光层的消耗，标示件的材料与抛光层的材料相同。本发明通过设置在底层表面与抛光层同层的标示件表示抛光层的消耗情况。在进行化学机械研磨的过程中，获取标示件的标示图形，并通过比较标示图形与临界图形判断抛光层的消耗情况。在表示抛光层已磨损的标示件的数量达到预设值时，判断抛光垫需更换。本发明通过对标示件的监测实现了对抛光层消耗情况的监测，实现了根据抛光垫的消耗情况决定是否需要更换抛光垫，从而提高了抛光垫使用寿命判断的准确性，进而提高了晶圆抛光的质量，提高了器件制造的良品率。