简介： 本发明提供一种用于抛光例如半导体衬底的化学机械(CMP)抛光垫，具有一个或多个在2mm厚度下将具有325nm或更低波长下的UV截断的终点检测窗口(窗口)，且所述化学机械(CMP)抛光垫是(A)30到56wt.％的一种或多种脂环族二异氰酸酯或多异氰酸酯与(B)43到69.9999的(i)平均分子量为500到1,500的聚合二醇，如用于硬质窗口的聚碳酸酯二醇和用于软质窗口的聚醚多元醇，与(ii)平均分子量为120到320的三醇的多元醇混合物，其中聚合二醇(B)(i)与三醇(B)(ii)的重量比在1.6:1到5.2:1范围内，以及催化剂的反应混合物的产物，所述催化剂优选仲胺或叔胺或新癸酸铋，所有重量百分数均以所述反应混合物的总固体重量计。