简介： 一种氮氧化硅薄膜的等离子处理程度的光学检测方法,包括先用化学汽相沉积法在半导体晶片上沉积氮氧化硅薄膜,然后对其进行等离子处理,最后利用光学检测方法对氮氧化硅薄膜的等离子处理程度进行光学检测。根据氮氧化硅薄膜的折射率或反射率的变化判断其等离子处理的程度。