简介： 本发明公开了一种单片工艺腔的晶圆检测装置，包括：光信号发射端、光信号接收端和模式控制部件；模式控制部件在晶圆作业过程中关闭光信号发射端，以防止光信号发射端发射的光信号和作业过程中的晶圆的膜层产生光化学反应。本发明还提供一种单片工艺腔的晶圆检测方法。本发明能防止晶圆检测装置的光信号对晶圆的膜层产生光化学反应并从而能避免由此产生的缺陷，特别有利于防止双大马士革工艺中的沟槽或通孔开口的干法刻蚀后的湿法刻蚀中的铜扩散。