检测Low-K工艺芯片分层问题的方法
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检测Low-K工艺芯片分层问题的方法
来源:北方有色网
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简介:
本专利主要针对目前Low‑K工艺芯片分层问题而提出的一种新的检测方法,通过该方法可以有效的对芯片分层问题进行分析定位,如果芯片存在分层问题,可以使用一种特殊的试剂对芯片进行浸泡,使其内部金属层与试剂发生化学反应,从而在芯片内部产生不同的颜色,然后通过颜色来判定芯片分层的位置。
本专利主要针对目前Low‑K工艺
芯片
分层问题而提出的一种新的检测方法,通过该方法可以有效的对芯片分层问题进行分析定位,如果芯片存在分层问题,可以使用一种特殊的试剂对芯片进行浸泡,使其内部金属层与试剂发生化学反应,从而在芯片内部产生不同的颜色,然后通过颜色来判定芯片分层的位置。
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标签:化学分析
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